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鍍膜是一種常用的表面處理工藝，一般是在真空環(huán)境下，將某種金屬或非金屬以氣相的形式沉積到材料表面，形成一層致密的薄膜，鍍膜質(zhì)量對半導體器件的功能形成至關(guān)重要。中慧芯掌握電子束蒸發(fā)、磁控濺射、LPCVD、PECVD、原子層沉積等多種鍍膜技術(shù)。
| 鍍膜材料 | ·金屬 Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等 |
| ·非金屬 Si、SiO2、SiNx、Al2O3、HFO2、MgF2、ITO、Ta2O5等 | |
| 鍍膜基底 | ·硅片、石英玻璃片、藍寶石片、PET、Pi等 |
| 鍍膜技術(shù) | ·電子束蒸發(fā)、磁控濺射、LPCVD、PECVD、ALD原子層沉積等 |